PRODUCT製品情報
レーザー式粒度モニター INSITEC
プロセス用粒子径分布測定器“INSITEC”は、製造ラインを流れる各種試料（乾燥粉末・スラリー・エマルション等）に対して、その粒子径を0.1～2500μmまで幅広くモニタリングします。サンプリングプローブや希釈装置などの各種サンプリングシステムと併用することで、一定濃度の代表試料を“INSITEC”へ供給することができる為、ライン生産量の多寡によらず、安定して測定することができます。
また、得られた粒子径データは製造ラインへフィードバックすることで、製造ラインの自動制御とコストパフォーマンスの向上を実現します。外部出力用ソフトウェアを介して、お客様がお使いの既存の制御システム内へ“INSITEC”を統合することで、PCまたは制御パネルなどから“INSITEC”を遠隔操作することも可能です。
従来型測定器からの切り替えが可能
「日々使用している粒度分布測定器とのデータの相関があるのか？」・・・このご心配はインライン/オンライン機器をご検討頂く際に、まず始めにご心配される点です。
INSITECは日本を含めた国際的な市場占有率がTOPである英国マルバーン社製のマスターサイザーMS-3000との決定係数R2は0.9993と極めて高い相関が確認できます。
INSITECのラインナップと基本仕様
INSITEC T
GMP対応乾式仕様
基本的なInsitecプラットホームに装着されたInsitecT（トリクランプ）オンライン粒度測定装置は、GMP適合が必要な領域–製薬・食品グレードのプロセス–や、粉体塗装などの用途向けに作られています。
INISTEC X
防爆仕様仕様
InsitecXは世界初の防爆仕様オンライン粒度分析装置です。この装置はGMPに高レベルで適合しています。欧州規格EN50020:1994およびIEC規格IEC60079-1:1999に準拠した防爆仕様の認可を得ており、0、1、2のガス雰囲気ゾーンならびに20、21、22の粉塵雰囲気ゾーンでの使用が可能です。
INSITEC L
プロセス環境の厳しさに耐えるように作られた湿式プロセス用インシテックは、レーザ回折技術を用いて0.1～2,500μmの粒度範囲の粒子を測定します。あらゆる湿式粒子プロセスに実践的に適合するようにシステムを構成でき、様々な湿式プロセスライン中の粒度分布を24時間リアルタイム測定が可能です。
有機溶媒にも対応できます。（灯油、シクロヘキサン等）
サンプリングの完全自動化も可能です。
INSITEC LPS
完全自動のインシテック湿式システムは、試料の濃度コントロールを行う、希釈装置も備えた、レーザ回折式粒度分布測定装置です。それにより、手動サンプリングによるオフラインから完全自動化されたオンライン連続モニタリングおよび多変量管理まで対応できるように設計されています。
基本仕様
| 測定範囲 | 0.1〜2500 μm |
|---|---|
| 測定原理 | Mie散乱に基づくレーザ回折・散乱法 |
| 寸法（W×H×D） | 565〜767 mm×280 mm×280 mm W値は下記「レンズ焦点距離表」参照 |
| 重量 | 20 kg |
| 精度 | ±2 %（検証レチクルによるDv 50） |
| 測定時間 | 最短0.25秒、連続測定可能 |
| 光源 | 半導体レーザ 波長670 nm |
| 対応規格 | レーザクラス II |
| CEマーク適合 | |
| GAMP5 | |
| 防塵・防滴：IP65 | |
| 電源 | AC100-240 V、50/60 Hz |
| 使用温度範囲 | 温度−10 ℃〜70 ℃ 湿度10〜90 %（結露なきこと） |
| PC | OS：Windows お問い合わせの上、最新の対応をご確認下さい。 |
| 必要なユーティリティ | 圧縮空気または窒素0.6 MPa、30 m3/hour（乾式のみ） |
| 水道水、０.2 MPa、4 ℓ/min（インシテック LPSのみ） | |
| 材質 | 接粉部 SUS316L |
| 防爆 | 本質安全防爆ATEX対応 |
| 外部接続 | アナログ出力(4-20 mA)のほかCC-LINKやModbus-TCPなどのフィールドバスに対応 |
レンズ焦点距離表
| レンズ焦点距離 | f = 100 mm | f = 200 mm | f = 300 mm | f = 500 mm |
|---|---|---|---|---|
| 測定レンジ | 0.1～200 μm | 1.0～400 μm | 1.5～600 μm | 2.5～2500 μm |
| Dv（50）レンジ | 2.5～125 μm | 5～250 μm | 7～350 μm | 10～1500 μm |
| 装置幅 | 565 mm | 667 mm | 767 mm | 667 mm |
乾式測定用INSITEC
INSITECDryは、移送配管中のリアルタイムデータまたはマニュアルサンプリングによるバッチ測定データを得ることもできます。
INSITECは、磨耗性のある粉体から食品、高付加価値のある化学品、および医薬品のプロセスモニタリングや制御に使用されます。製薬仕様は厳しい衛生基準を採用しております。
プロセスインターフェースは、パイロットスケールでも1時間当たり何百トンのプロセスでも様々なお客様のニーズに合うように調整されます。
INSITEC乾式は以下の通り対応可能です。
- 特定の製造仕様を満たすようにGAMP5基準に準拠。また、CIP/SIPに対応
- オペレーターの介在を不要とした、使いやすいソフトウェアと完全自動化運転
- 既存のプラント制御システムとの統合が容易
湿式測定用INSITEC
湿式プロセス用INSITECは、バッチまたは連続湿式プロセスで、完全自動のリアルタイム、または手動アットラインによる粒度分布測定を実現します。
INSITECは、粘着性の高い液体から薬液、エマルションまで様々な業界の製造現場モニタリングや制御に使用されます。代表サンプルを適切に取り出すために、
プロセスインターフェイスは、パイロットスケールでも１時間当たり何百トンのプロセスでも様々なお客様のニーズに合うように調整されます。
湿式プロセス用レーザ回折式粒度分布測定機INSITECは以下の通り対応可能です。
- 特定の製造仕様を満たすようにGAMP5基準に準拠。また、CIP/SIPに対応
- オペレーターの介在を不要とした、使いやすいソフトウェアと完全自動化運転
- 既存のプラント制御システムとの統合が容易
- メンテナンスに要するダウンタイムは5%以下。高い費用対効果
スプレー測定用INSITEC
オンライン・インライン粒度分布測定機INSITECは、製造現場でのスプレーやエアロゾルのリアルタイム粒度分布測定を行います。
たとえば、INSITECは風洞や大気チャンバー内の状態をモニタリングしたり、エアロゾルやパーソナルケア製品の特性評価を行ったり、
スプレードライなどのバッチおよび連続プロセスのモニタリングを行ったりします。
スプレープロセス用レーザ回折式粒度分布測定機INSITECは以下の通り対応可能です。
- 特定の製造仕様を満たすようにGAMP5基準に準拠。また、CIP/SIPに対応
- オペレーターの介在を不要とした、使いやすいソフトウェアと完全自動化運転
- 既存のプラント制御システムとの統合が容易
INSITEC自動制御システム
現場からサンプルを手動で採取して測定を行う従来の方法では，現場から測定室までがどれだけ近くとも，最低5～10分は必要です。その結果をみて設備の運転条件を変更した場合には，
その都度サンプリングと測定が必要になり，その間品質基準から外れた製品を作り続ける恐れがあります。よって，INISTECを用いた「自動制御システム」を製造ラインに適用すると，
省力化だけでなく，製品品質の安定化および原料ロスの削減にも貢献出来ます。
粉砕機への供給速度を可変して粒度調整を行った結果、いずれの区間においても目標粒度を変更するとフィードバック制御が掛かり，2分程度で目標範囲に収まることがわかりました。
分級機のローター回転数を可変する形で粒度制御システムを立ち上げた結果、途中で原料粒度を変えたところフィードバック制御により，2分程度で当初設定した目標粒径に収まることが判りました。
INSITEC 複数ラインからのサンプリング
インライン・オンライン機器の共通課題として，機器本体が高価であることが挙げられます。測定器1台で生産設備1ラインを監視する方法は，導入コストが非常に高額となります。
そのため，複数ラインの生産設備の監視と制御を目指したとき，測定器1台で生産設備を2～3ライン兼用で監視できれば，測定機1～2台分の投資を抑える事が出来ます。
これにより設備投資費用を大幅に低減させることができます。
